供应扩散炉生产厂家|氧化炉退火炉光亮设备

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供应扩散炉生产厂家|氧化炉退火炉光亮设备

发布时间：2014年07月11日
有效期：2015年01月10日

详细说明

    扩散炉

扩散炉主要是完成半导体元器件的扩散，可作元器件的烧结、退火、等工艺，具有应用范围广、安全可靠、控制精度高等特点。

2.设备名称       双管扩撒炉

3.型号           L4611II-Z/RZQ

4.规格           石英玻璃（单）管有效直径Φ150×2400mm，

                 管壁厚度5-6 mm。

5.主要配制：

5.1主机部分

5.2温度控制部分（PID）

5.3气路部分

5.4氧化室

5.5功率部分

5.6移动工作台

6.主要技术指标

6.1*高温度                         1280℃

6.2使用温度                         300℃～1200℃

6.3恒温区长度                       大于等于600mm

6.4单点控温精度                     ±0.5℃/24h

6.5升温功率                         20kw

6.6保温功率                         10kw

6.7氮气流量   大                                 0～20L/min（可调）

　            小（通过洗气瓶，容量500～1000ml）  0～1L/min